Azienda Huawei ha brevettato uno dei componenti importanti utilizzati nei sistemi di litografia EUV (litografia ultravioletta estrema), necessario per creare processori di alta classe su un processo tecnologico fino a 10 nm. Risolve il problema dei modelli di interferenza creati dalla luce ultravioletta, che altrimenti renderebbero irregolare la lastra.
L'azienda è nella fase finale della produzione di microcircuiti Huawei risolto il problema causato dalle minuscole lunghezze d'onda della luce ultravioletta estrema. Il brevetto dell'azienda descrive una serie di specchi che dividono un raggio di luce in diversi sotto-raggi che si scontrano con i propri specchi microscopici.
Attualmente, i sistemi di litografia EUV sono prodotti esclusivamente dalla società olandese ASML. Si basano sugli stessi principi delle forme più antiche di litografia, ma utilizzano luce con una lunghezza d'onda di circa 13,5 nm, che è quasi raggi X. ASML genera luce ultravioletta da goccioline in rapido movimento di stagno fuso di circa 25 micron di diametro.
"Durante la caduta", spiega ASML, "le goccioline cadono prima sotto un impulso laser a bassa intensità, che le appiattisce in una frittella. Un impulso laser più potente vaporizza quindi la gocciolina appiattita, creando un plasma che emette luce ultravioletta. Per produrre luce sufficiente per realizzare microchip, questo processo viene ripetuto 50 volte al secondo.
ASML ha impiegato più di 6 miliardi di euro e 17 anni per sviluppare il primo lotto di macchine litografiche EUV che potesse essere venduto. Ma il governo degli Stati Uniti pressione esercitata sul governo olandese, in modo che la società non esporterebbe la novità in Cina e il paese sarebbe limitato alla vecchia tecnologia DUV (deep ultraviolet). Quindi attualmente solo cinque aziende utilizzano o hanno annunciato l'intenzione di utilizzare i sistemi di litografia ASML EUV: Intel e Micron negli Stati Uniti, Samsung e SK Hynix in Corea del Sud e TSMC a Taiwan.
Aziende cinesi come Huawei, erano in precedenza in grado di inviare i loro progetti a fabbriche come TSMC per essere prodotti utilizzando la litografia EUV. Ma da quando gli Stati Uniti hanno introdotto sanzioni contro la Cina, diventa quasi impossibile. Tuttavia Huawei ha ancora bisogno di accedere a nodi avanzati che utilizzano la litografia EUV per continuare a migliorare i processori. Quindi ora l'azienda punta a costruire i propri sistemi EUV e sta ricevendo capitale e sostegno sufficienti dal governo. Ma ci vuole ancora molto tempo.
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