Root NationNotiziaGiornale informaticoSamsung inizierà la produzione di massa di chip a 3 nm la prossima settimana

Samsung inizierà la produzione di massa di chip a 3 nm la prossima settimana

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Si prevede che Samsung annuncerà l'inizio della produzione di massa di chip a 3 nm la prossima settimana, riporta Yonhap News. Questo pone l'azienda davanti a TSMC, che dovrebbe iniziare la produzione di chip a 3 nm nella seconda metà di quest'anno.

Rispetto al processo a 5 nm (che è stato utilizzato per Snapdragon 888 ed Exynos 2100), il nodo a 3 nm di Samsung ridurrà l'area del 35%, aumenterà le prestazioni del 30% e ridurrà il consumo energetico del 50%.

Samsung 3 nm

Ciò sarà ottenuto passando al design del transistor Gate-All-Around (GAA). È il passo successivo dopo FinFET, in quanto consente di ridurre le dimensioni dei transistor senza compromettere la loro capacità di condurre corrente. Il design GAAFET utilizzato sul nodo a 3 nm è mostrato nella figura seguente.

Samsung 3 nm
Evoluzione dei transistor al silicio

Il presidente degli Stati Uniti Joe Biden ha visitato lo stabilimento il mese scorso Samsung a Pyeongtaek per partecipare a una dimostrazione della tecnologia a 3 nm Samsung. L'anno scorso circolavano voci secondo cui la società avrebbe potuto investire 10 miliardi di dollari nella costruzione di una fonderia a 3 nm in Texas. Questi investimenti sono cresciuti fino a 17 miliardi di dollari e l'impianto dovrebbe entrare in funzione nel 2024.

Samsung 3 nm
Posizione della pianta Samsung a Taylor, Texas, Stati Uniti

In ogni caso, viene emessa la preoccupazione maggiore durante la creazione di un nuovo nodo. Nell'ottobre dello scorso anno Samsung ha affermato che le prestazioni del processo a 3 nm "si avvicinano allo stesso livello del processo a 4 nm". Sebbene l'azienda non abbia presentato dati ufficiali, gli analisti ritengono che il nodo a 4 nm Samsung era associato a problemi di produzione.

Un nodo a 3 nm di seconda generazione è previsto nel 2023 e la roadmap dell'azienda include anche un nodo basato su MBCFET a 2 nm nel 2025.

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